![CAS-nr. 39713-40-1 7,8-dihydro-5H-cyclohepta[b]pyridine-5,9(6H)-dion Farmaceutische tussenproducten](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/2209/image_other/2025-04/39713-40-1-7-8-dihydro-5h-cyclohepta-b-pyridine-5-9-6h-dione-structural-formula.png)
0102030405
Fotoresistmonomeer VPBO
| Fotoresistmonomeer | VPBO | 95418-58-9 |  |
Fotoresistmonomeer VPBO, CAS-nummer 95418-58-9, is een specifieke verbinding die wordt gebruikt in fotoresistformuleringen. Dit monomeer staat bekend om zijn rol in het verbeteren van de prestatie-eigenschappen van fotoresistmaterialen, met name resolutie, gevoeligheid en etsbestendigheid.
Chemische informatie:
Chemische naam:4-vinylfenyl-4-benzoyloxybenzoaat
CAS-nummer:95418-58-9
Moleculaire formule:C22H18O3
Moleculair gewicht:330,38 g/mol
01
7 januari 2019
Kenmerken en voordelen
Hoge resolutie: VPBO-monomeer helpt bij het vormen van fotoresists die patronen met een hoge resolutie mogelijk maken, wat essentieel is voor geavanceerde halfgeleiderproductie en andere microfabricageprocessen.
Verhoogde gevoeligheid: het monomeer verhoogt de gevoeligheid van de fotoresist voor belichting, waardoor patronen efficiënter kunnen worden overgebracht en de belichtingstijd wordt verkort.
Thermische stabiliteit: VPBO-gebaseerde fotoresists vertonen een goede thermische stabiliteit, wat zeer belangrijk is voor processen waarbij hoge temperaturen een rol spelen.
Chemische bestendigheid: Het monomeer verbetert de chemische bestendigheid van de fotoresist, waardoor deze duurzamer wordt tijdens ontwikkelings- en etsprocessen.
App
Halfgeleiderproductie: voor de productie van geïntegreerde schakelingen die een hoge precisie en kleine kenmerken vereisen.
Micro-elektromechanische systemen (MEMS): maken het mogelijk om zeer precieze micromechanische componenten te creëren.
Geavanceerde lithografie: geschikt voor lithografiemethoden van de volgende generatie, waaronder extreme ultraviolet (EUV) lithografie.
Behandeling en beveiliging
Bewaren: VPBO-monomeer moet op een koele, droge plaats worden bewaard, uit de buurt van direct zonlicht en vuurbronnen.
HANTERING: Bij het hanteren van monomeren dient men geschikte beschermende uitrusting te dragen, zoals handschoenen en een veiligheidsbril, om contact met de huid en de ogen te vermijden.
Afvalverwerking: Afvalstoffen dienen te worden afgevoerd volgens de plaatselijke, regionale en nationale voorschriften.
Tot slot
Fotoresistmonomeer VPBO (CAS 95418-58-9) is een belangrijk ingrediënt in hoogwaardige fotoresistformuleringen. De eigenschappen maken het geschikt voor toepassingen die een hoge resolutie, gevoeligheid en duurzaamheid vereisen, met name in de halfgeleiderproductie en microbewerking. Naarmate de technologie vordert, spelen gespecialiseerde monomeren zoals VPBO een steeds belangrijkere rol bij het verleggen van de grenzen van wat mogelijk is in lithografie en aanverwante processen.
Wat is fotoresist?
Fotoresist is een lichtgevoelig materiaal dat wordt gebruikt in fotolithografie en andere beeldvormingstechnieken om patrooncoatings op oppervlakken aan te brengen. Dit materiaal is cruciaal voor de productie van halfgeleiders, printplaten (PCB's) en micro-elektromechanische systemen (MEMS). Het proces omvat het overbrengen van een patroon van een fotomasker naar een met fotoresist bedekt substraat, dat vervolgens kan worden geëtst of anderszins bewerkt om de gewenste microstructuur te creëren.
Belangrijkste componenten van fotoresist
Polymeerbasis: Biedt de structurele matrix en bepaalt de mechanische eigenschappen van de fotoresist.
Lichtgevoelige stof (PAC): reageert op licht, waardoor de oplosbaarheid verandert.
Oplosmiddel: Wordt gebruikt om polymeer en PAC op te lossen, zodat de fotoresist een dunne film kan vormen.
Soorten fotoresist
Positieve fotoresist
Mechanisme: Wanneer de belichte delen van de fotoresist worden blootgesteld aan licht, worden ze oplosbaarder in de ontwikkelaar.
Toepassing: Blootgestelde delen worden tijdens de ontwikkeling verwijderd, waardoor een patroon achterblijft dat overeenkomt met het fotomasker. Het kan worden gebruikt voor touchscreen-randen, kleurenfilters en zwarte matrix
Negatieve fotoresist
Mechanisme: Bij blootstelling aan licht neemt de oplosbaarheid van de belichte delen van de fotoresist in de ontwikkelaar af.
Toepassing: Tijdens de ontwikkeling worden de onbelichte gedeeltes verwijderd, waardoor het patroon tegenover het fotomasker overblijft.
Fotolithografieproces
Coating: Gebruik technieken zoals spincoating om een gelijkmatige laag fotoresist op het substraat aan te brengen.
Zacht bakken: bak het gecoate substraat om overtollig oplosmiddel te verwijderen en de hechting te verbeteren.
Belichting: Belicht de fotoresist via het fotomasker en breng het patroon over op de fotoresist.
Post Exposure Bake (PEB): Dit wordt soms gedaan om de chemische reacties die tijdens de blootstelling op gang komen, te versterken.
Ontwikkelen: Dompel het substraat onder in de ontwikkelaar om blootgestelde of onbelichte delen te verwijderen, afhankelijk van of u positieve of negatieve fotoresist gebruikt.
Hard bakken: Laatste bakfase om de resterende fotoresist te laten uitharden en de weerstand tegen latere verwerkingsstappen te verbeteren.
App
Halfgeleiderproductie: complexe patronen voor geïntegreerde schakelingen creëren.
Printplaat (PCB): Definieert het geleidende pad.
Micro-elektromechanische systemen (MEMS): productie van micromechanische componenten.
Opto-elektronica: Gestructureerde componenten van optische apparaten.
Vooruitgang in fotoresisttechnologie
Extreme Ultraviolet (EUV) Resist: speciaal ontwikkeld voor de volgende generatie halfgeleiderproductie met kleinere kenmerken.
Milieuvriendelijk Resist: speciaal ontwikkeld om de impact van fotolithografieprocessen op het milieu te verminderen.
Meerlaagse resist: wordt gebruikt om hoge beeldverhoudingen en complexe 3D-structuren te bereiken.
Kortom, fotoresist is een essentieel materiaal in moderne microbewerking, waardoor de productie van steeds kleinere en complexere elektronische apparaten mogelijk wordt. Vooruitgang in fotoresisttechnologie blijft innovatie stimuleren in diverse hightechindustrieën.
Fotoresists zijn toepasbaar voor touchscreen-randen, kleurenfilters en zwarte matrixen.
beschrijving2